[:ja]
Photonix 2016 -光計測・分析機器展-に出展致しました。
弊社ブースへお立ち寄り下さいました皆様、誠にありがとうございました。
- 会期 : 2016年4月6日(水) ~ 8日(金) 10:00 – 18:00 (最終日のみ17:00まで)
- 場所 : 東京ビックサイト
- 小間番号 : 光計測・分析機器展 E34-14
- 出展内容 : 光学膜厚測定システム
- 開催概要 : http://www.photonix-expo.jp/ja/Home/
- 膜厚・光学定数決定に要求される高速反射率スペクトル測定機能をA4サイズに凝縮
- スペクトル解析ソフトウェアSCOUTを標準搭載
- 単層膜の膜厚・屈折率測定、多層膜を始めとする様々な膜解析アプリケーションに対応
- 反射率スペクトル測定からフィッティング解析までのシークエンスを簡単操作
- 数十 nm程度の膜厚から測定可能
- Dates : Apr. 6 to 8, 2016, (Last day, by 17:00)
- Venue : Tokyo Big Site
- Booth : Optical Measuring Expo E34-14
- Exhibition contents : Please look at the Japanese-language page.
- Outline : http://www.photonix-expo.jp/en/Home/
反射率スペクトル測定光学系と解析ソフトウェアの連携により、薄膜の膜厚と光学定数を簡単に測定できます。
[:en]
We had exhibited in Photonix-expo 2016.
All of you who dropped in at our booth, thank you very much.
[:]