Photonix2016 出展 — 終了しました —

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Photonix 2016 -光計測・分析機器展-に出展致しました。
弊社ブースへお立ち寄り下さいました皆様、誠にありがとうございました。

• 会期 : 2016年4月6日(水) ~ 8日(金) 10:00 – 18:00 (最終日のみ17:00まで)
• 場所 : 東京ビックサイト
• 小間番号 : 光計測・分析機器展 E34-14
• 出展内容 : 光学膜厚測定システム
  
• 開催概要 : http://www.photonix-expo.jp/ja/Home/

• 光学膜厚測定システム(実機デモ)
反射率スペクトル測定光学系と解析ソフトウェアの連携により、薄膜の膜厚と光学定数を簡単に測定できます。

 

• 膜厚・光学定数決定に要求される高速反射率スペクトル測定機能をA4サイズに凝縮
• スペクトル解析ソフトウェアSCOUTを標準搭載
• 単層膜の膜厚・屈折率測定、多層膜を始めとする様々な膜解析アプリケーションに対応
• 反射率スペクトル測定からフィッティング解析までのシークエンスを簡単操作
• 数十 nm程度の膜厚から測定可能
  

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We had exhibited in Photonix-expo 2016.
All of you who dropped in at our booth, thank you very much.

• Dates : Apr. 6 to 8, 2016, (Last day, by 17:00)
• Venue : Tokyo Big Site
• Booth : Optical Measuring Expo E34-14
• Exhibition contents : Please look at the Japanese-language page.
• Outline : http://www.photonix-expo.jp/en/Home/


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